電子暨半導體部門
.
Equipment, Process
.
Equipment, Inspection & Measurement
.
Assembly and Test
.
Materials
.
Sub-Systems, Components, Parts
＋光刻機系統
＋蒸發台
＋ICP RIE System
＋氣相輔助式沉積系統
＋鍵合機
＋濺射台
＋等離子去膠機
＋LED 晶片分選機
＋LED 晶片探針台
＋外觀NG晶粒檢選機
＋全自動高速固晶機
＋直立/桌上 型多/單 頭式塗布機
＋化學濕法清洗台
＋晶圓甩幹機
＋全光譜膜厚測量儀
＋全/單 光譜橢偏儀
＋表面輪廓儀（臺階儀）
＋更多产品………
LED Products
化學濕法清洗台（Wet Bench）
提供晶圓濕法清洗制程所需之顯影，蝕刻，濕法去膠，晶圓清洗，晶圓烘乾多功能濕法清洗機器。
可編程PLC全程控制PROCESS加熱，震盪，N2 BUBLE 清洗方式。
操作簡便，維護成本低。
化學濕法清洗台（Wet Bench）