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氣相輔助式沉積系統（PECVD System）
AST公司在中國大陸LED設備中游市場佔有率最高，達到65%，設備穩定性高，採用標準化部件，服務到位，極大降低用戶端成本。
採用特殊的Shower Head設計，搭配獨立的RF設計以此達到令人滿意的成膜品質
可搭配AST聚昌科技Cluster Tool傳輸平臺，將可大幅提升P200C設備的高晶圓產出率與設備使用彈性，效率，有效降低人工成本與人為疏失所造成的良率損失
具有獨特的低溫制程，保證客戶在不同參數的制程條件下，製造出優質的產品
氣相輔助式沉積系統（PECVD System）
